JIF (Jurnal Ilmu Fisika) (Mar 2020)

Pengaruh Doping Palladium (Pd) Terhadap Lapisan TiO2 dengan Metode LPD untuk Applikasi Fotoanoda Sel Surya DSSC

  • Andhika Dwipanur,
  • Dahyunir Dahlan,
  • Nini Firmawati,
  • Akrajas Ali Umar

DOI
https://doi.org/10.25077/jif.12.1.6-10.2020
Journal volume & issue
Vol. 12, no. 1

Abstract

Read online

Lapisan TiO2 yang didoping Pd dengan metode deposisi fase cair (Liquid Phase Deposition, LPD) telah dilakukan. Adapun tujuan sintesis lapisan tersebut adalah untuk mendapatkan lapisan yang terdiri dari nanoplate yang akan diaplikasikan untuk fotoanoda sel surya. Sebagai larutan prekursor digunakan 0,5 M (NH4)2TiF6 dengan variasi doping Pd adalah 0; 6.25; 12.50; 25,00 dan 50,00 mM. Penumbuhan lapisan dilakukan pada suhu 900°C selama 9 jam.Didapatkan berturut-turut energi gap adalah 3,20; 3,25; 3,18; 3,16; dan 3,10 eV. Karakterisasi FESEM menunjukkan bahwa lapisan yang dihasilkan terdiri dari partikel berbentuk nanoplate yang tersebar merata di permukaan substrat ITO. Luas nanoplate yang dihasilkan di bawah 100 μm2 dengan ketebalan beberapa nanometer. Karakterisasi-karakterisasi ini menunjukkan bahwa lapisan TiO2 yang didoping oleh Pd sangat berpotensi sebagai photoanode untuk elektroda sel surya DSSC (Dye Sensitized Solar Cell).