EFECTO DE LA TEMPERATURA DEL SUSTRATO EN LA RUGOSIDAD E ÍNDICE DE REFRACCIÓN EN EL VISIBLE E INFRARROJO CERCANO DE PELÍCULAS DELGADAS DE NITRURO DE TANTALIO

Abstract

El presente trabajo ha sido desarrollado con la finalidad de determinar el efecto del incremento de la temperatura de sustrato sobre su índice de refracción y rugosidad de películas delgadas de nitruro de tantalio (TaN). Las películas delgadas de TaN fueron depositadas sobre obleas de silicio (100) y (111), por la técnica de pulverización magnética reactiva con corriente continua, utilizando una mezcla de gases argón-nitrógeno, a temperaturas de sustratos de 473 K, 573 K y 673 K respectivamente. La caracterización de las muestras fueron realizadas con un difractómetro de rayos X (XRD), la técnica de espectroscopia electrónica Auger (AES), un microscopio electrónico de barrido (SEM), un elipsómetro espectral (SE) y un microscopio de fuerza atómica (AFM). Las películas delgadas de TaN sintetizadas tuvieron una estructura cristalina cúbica centrada en la cara (fcc), que no cambió con el aumento de temperatura, sin embargo aparecen nuevas direcciones de los planos cristalográficos y las intensidades de los picos de difracción disminuyeron. Las muestras estuvieron compuestas de tantalio (65 %), nitrógeno (28 %), oxígeno (5,3 %), carbono y argón. El índice de refracción disminuyó con el incremento de temperatura para longitudes de onda entre el rango visible e infrarrojo cercano 4000 - 12000 Å, mientras que la rugosidad aumentó a medida que la temperatura incrementó, evidenciando un comportamiento no estable.

Keywords

• pulverización reactiva
• película delgada
• nitruro de tantalio
• estructura cristalina
• elipsometría espectral (se)