Unraveling the Mechanism of Maskless Nanopatterning of Black Silicon by CF4/H2 Plasma Reactive-Ion Etching

• Francesco Ghezzi,
• Matteo Pedroni,
• Janez Kovač,
• Federica Causa,
• Anna Cremona,
• Mariano Anderle,
• Roberto Caniello,
• Silvia M. Pietralunga,
• Espedito Vassallo

Affiliations

Francesco Ghezzi

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy

Matteo Pedroni

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy

Janez Kovač

Jozef Stefan Institute, Ljubljana, Slovenia

Federica Causa

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy

Anna Cremona

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy

Mariano Anderle

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy

Roberto Caniello

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy

Silvia M. Pietralunga

CNR, Istituto di Fotonica e Nanotecnologie, Milan, Italy

Espedito Vassallo

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR, Milano, Italy