Avances en Ciencias e Ingeniería (Dec 2018)
CRECIMIENTO DE PELÍCULAS DELGADAS DE ÓXIDO DE VANADIO POR SPUTTERING RF Y CARACTERIZACIÓN POR ESPECTROSCOPÍA RAMAN
Abstract
Se fabricaron películas delgadas de óxido de vanadio por la técnica de Sputtering RF, usando un blanco de dióxido de vanadio, sobre sustratos de vidrio Corning. Las películas fueron fabricadas con diferentes valores de potencia: 40, 60, 80 y 100 W. Posteriormente, las películas fueron sometidas a tres series de tratamientos térmicos en una atmósfera de aire, usando una temperatura de 350 °C y variando el tiempo del tratamiento en una, dos y tres horas. La formación de las diferentes fases de los óxidos de vanadio fue estudiada usando microscopía Raman en función de la potencia de fabricación y de los tratamientos térmicos pos-depósito. Los resultados obtenidos mostraron que espectroscopía Raman es una técnica altamente sensible para determinar la presencia de las diferentes fases de dióxido de vanadio en películas amorfas. Se encontró que sin tratamiento térmico se puede obtener películas de pentóxido de vanadio fabricadas a 100 W.
