بازدهی جریان پالسی در فرآیند پوشش‌دهی نانوذرات طلا از محلول دی‌سیانورات پتاسیم

Abstract

مقایسه‌ی اثر دو نوع زیرلایه و افزودنی نشان داد که هنگام پوشش‌دهی پالسی نانوذرات طلا، استفاده از اکسید ایندیم- قلع (به‌جای مس) و سیس‌تئین (به‌جای یُدید پتاسیم) سبب بهبود مُرفولوژی، افزایش تعداد نانوبلورها و بازدهی جریان الکتریکی و خواص فتوکاتالیزری می‌شود. مطالعات میکروسکُپ الکترونی روبشی گسیل میدانی نشان داد که با افزایش فرکانس پالسی از 50 به 8/142 هرتز و استفاده از یُدید پتاسیم، نانوخوشه‌های طلا روی سطح مس ظاهر می‌شوند و ضخامت پوشش و بازدهی جریان افزایش می‌یابند، ولی با کاهش چگالی جریان از 10 به 5/2 میلی‌آمپر بر سانتی‌متر مربع، ضخامت پوشش و بازدهی جریان کاهش می‌یابند.

Keywords

• نانوذرات طلا رسوب‌دهی الکتریکی پالسی
• سیس‌تئین
• یدید پتاسیم
• مس، اکسید ایندیم قلع