Química Nova
(Feb 1998)
Modelagem dos processos químicos em plasmas de misturas gasosas usadas na corrosão de silício. Parte 2: SF6 / O2
- G. F. Bauerfeldt,
- G. Arbilla
Affiliations
- G. F. Bauerfeldt
- Universidade Federal do Rio de Janeiro
- G. Arbilla
- Universidade Federal do Rio de Janeiro
- DOI
-
https://doi.org/10.1590/S0100-40421998000100006
- Journal volume & issue
-
Vol. 21,
no. 1
pp.
34
– 42
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