Ciencia e Ingeniería Neogranadina (Jan 2010)
ANÁLISIS ESTRUCTURAL Y MORFOLÓGICO DE PELÍCULAS DE NITRURO DE ALUMINIO OBTENIDAS POR DEPOSICIÓN DE LÁSER PULSADO
Abstract
En este trabajo, se presentan los resultados preliminares de peliculas nanoestructuradas de nitruro de aluminio (AlN), que fueron depositadas con el metodo de deposicion por laser pulsado (PLD). Al efecto, se utilizo un laser Nd:YAG (¿É=1064nm), que impacto un blanco de aluminio de alta pureza (4N), en una atmosfera de nitrogeno. Se utilizaron como sustratos portaobjetos de vidrio, Si3N4 (100) y Si (100). El tiempo de deposicion fue de 15 minutos a una fluencia del laser 7 J/cm2 y a temperatura ambiente. El espesor de las peliculas fue de 50 nm medido con un perfilometro. Para estudiar la influencia del nitrogeno en las peliculas delgadas de AlN, se vario la presion del gas ambiente entre (3 y 4) mTorr. Igualmente se estudió la influencia del sustrato en las propiedades morfológicas de las películas delgadas de AlN. La nanoestructura de las películas se determinó mediante microscopia electrónica de barrido (SEM), y microscopia de fuerza atómica (AFM); la composición química, utilizando la técnica de espectroscopía de rayos X por dispersión de energía (EDX). La estructura cristalina fue estudiada con difracción de rayos X (DRX), para la película de 4 mTorr sobre un sustrato de Si3N4 (100), y se encontró una estructura policristalina con reflexiones de los planos (002), asociados a la estructura tipo wurtzita del AlN.
