بررسی تاثیر دمای بازپخت بر ویژگی های ساختاری، ریخت شناسی و نوری لایه های نازک Cu/NiO

Abstract

در‌این تحقیق، ابتدا لایه‌های نازک Cu/NiO بر روی‌ زیر‌‌‌لایه‌های شیشه ‌‌و‌سیلسیوم ‌‌با‌‌روش کندوپاش واکنشی مگنترونی RFانباشت شده ‌و‌ سپس نمونه‌ها‌ در ‌دماهای 473، 673‌ و K‌873‌‌ بازپخت حرارتی شده‌اند. برای بررسی ویژگی‌های ساختاری، ریخت شناسی و نوری نمونه‌ها ‌از ‌آنالیزهای مختلفی استفاده شده‌است. نتایج پراش پرتو ایکس نمونه ها بیانگر آن است که ساختار تمامی لایه‌های تهیه شده بی شکل می باشند. آنالیز FTIR قله‌ای را در عدد موج، cm-1 52/596 نشان می دهد که مربوط به پیوند Ni-O می باشد. آنالیز map EDS نیز ‌وجود‌ عناصر نیکل،‌اکسیژن ‌و مس را‌ در لایه‌های تهیه شده تایید می کند. نتایج ‌آنالیز AFM‌‌ و ‌FESEM نشان می‌دهند‌ که ریخت شناسی سطح لایه‌ها‌ به شدت تحت تاثیر دمای بازپخت قرار گرفته و ‌‌‌زبری میانگین لایه‌ها بین 19/0 تا 50/0‌ نانو متر و جذر میانگین مربعی ‌زبری بین 25/0‌ تا ‌63/0 نانو‌متر تغییر کرده ‌است. همچنین، تغییر دمای بازپخت گاف نواری نوری نمونه‌ها را تحت تأثیر خود قرار‌داده و گاف نواری نوری نمو نه‌ها‌ در محدوده 14/3 تا50/3‌ الکترون ولت تغییر نموده ‌است.

Keywords

• اکسید نیکل
• cu/nio
• کندوپاش rf
• بازپخت حرارتی
• خواص نوری