Brazilian Oral Research (Dec 2005)
Influence of activation modes on diametral tensile strength of dual-curing resin cements Influência dos métodos de ativação na resistência à tração diametral de cimentos resinosos duais
Abstract
In metallic restorations, the polymerization of dual-curing resin cements depends exclusively on chemical activation. The effect of the lack of photoactivation on the strength of these cements has been rarely studied. This study evaluated the influence of activation modes on the diametral tensile strength (DTS) of dual-curing resin cements. Base and catalyst pastes of Panavia F, Variolink II, Scotchbond Resin Cement, Rely X and Enforce were mixed and inserted into cylindrical metal moulds (4 x 2 mm). Cements were either: 1) not exposed to light (chemical activation = self-cured groups) or 2) photoactivated through mylar strips (chemical and photo-activation = dual-cured groups) (n = 10). After a 24 h storage in 37ºC distilled water, specimens were subjected to compressive load in a testing machine. A self-curing resin cement (Cement-It) and a zinc phosphate cement served as controls. Comparative analyses were performed: 1) between the activation modes for each dual-curing resin cement, using Student’s t test; 2) among the self-cured groups of the dual-curing resin cements and the control groups, using one-way ANOVA and Tukey’s test (alpha = 0.05). The dual-cured groups of Scotchbond Resin Cement (53.3 MPa), Variolink II (48.4 MPa) and Rely X (51.6 MPa) showed higher DTS than that of self-cured groups (44.6, 40.4 and 44.5 MPa respectively) (p 0.05). The self-cured groups of all the dual-curing resin cements presented statistically the same DTS as that of Cement-It (44.1 MPa) (p > 0.05), and higher DTS than that of zinc phosphate (4.2 MPa). Scotchbond Resin Cement, Variolink II and Rely X depended on photoactivation to achieve maximum DTS. In the absence of light, all the dual-curing resin cements presented higher DTS than that of zinc phosphate and statistically the same as that of Cement-It (p > 0.05).Em restaurações metálicas, a polimerização dos cimentos resinosos duais depende exclusivamente da ativação química. Há poucas pesquisas sobre o efeito da supressão da fotoativação na resistência desses cimentos. Este estudo avaliou a influência de métodos de ativação na resistência à tração diametral (RTD) de cimentos resinosos duais. Pastas base e catalisadora do Panavia F, Variolink II, Scotchbond Resin Cement, Rely X e Enforce foram espatuladas e inseridas em matrizes metálicas cilíndricas (4 x 2 mm). Os cimentos foram: 1) não fotoativados (ativação química = grupos quimicamente ativados) ou 2) fotoativados através de tira de poliéster (ativação química e foto = grupos duais) (n = 10). Após armazenamento por 24 horas em água destilada a 37ºC, os espécimes foram submetidos a forças de compressão. Um cimento resinoso de ativação química (Cement-It) e um de fosfato de zinco serviram como grupos controle. Foram feitas as seguintes comparações: 1) entre os métodos de ativação (grupos quimicamente ativados e grupos duais), para cada cimento resinoso dual, por meio do testet de Student; 2) entre os grupos quimicamente ativados dos cimentos resinosos duais e os grupos controle, empregando-se ANOVA e teste de Tukey (alfa = 0,05). Os grupos duais do Scotchbond Resin Cement (53,3 MPa), Variolink II (48,4 MPa) e Rely X (51,6 MPa) tiveram maior RTD do que os seus grupos quimicamente ativados (44,6; 40,4 e 44,5 MPa, respectivamente) (p 0,05). Os grupos quimicamente ativados dos cimentos duais apresentaram RTD estatisticamente semelhante à do Cement-It (44,1 MPa) (p > 0,05), e maior que a do fosfato de zinco (4,2 MPa). Scotchbond Resin Cement, Variolink II e Rely X dependeram da fotoativação para alcançar valores máximos de RTD. Na ausência de luz, todos os cimentos duais apresentaram maior RTD que a do fosfato de zinco, e RTD estatisticamente semelhante à do Cement-It (p > 0,05).
Keywords
