Твердый смачивающий слой, формирование межфазной границы и тонкопленочные наноматериалы. Краткий обзор

Abstract

Приведен обзор результатов по формированию в идентичных условиях границы раздела 3d металлов и их силицидов с кремнием для различных параметров осаждаемого пара, кристаллографической ориентации и температуры подложки. Проведено обобщение этих результатов, заключающееся в том, что в процессе осаждения горячего пара на более холодную подложку переход от поверхностной фазы к объемной происходит через твердый смачивающий слой (ТСС) (SWL). Предложена классификация фаз, стабилизированных подложкой, включающая ТСС (SWL). Показано, что ТСС (SWL) имеет отличную от объёмных фаз электронную плотность, оптические, электрические и магнитные свойства, гладкую или наноструктурированную морфологию, а также играет важную роль в формировании границ раздела объемных фаз, их эпитаксиальных пленок и многослойных наноструктур. Эти исследования позволяют говорить о перспективности ТСС (SWL) как нового объекта нанотехнологии для создания тонкопленочных наноматериалов. Исследуемой проблемой является формирование границ раздела в тонкопленочных наноматериалах. Цель статьи - обосновать открытие неравновесных твердых смачивающих слоев, их уникальность и роль в формировании вышеупомянутых границ раздела. Проведен обзор и обобщение результатов исследования границы раздела металл–кремний, полученных в идентичных условиях. Обосновано открытие нового, общего типа переходного состояния пленки – твердого смачивающего покрытия, который формируется в неравновесных условиях и который играет ключевую роль в формировании границы раздела. Твердые смачивающие слои важны как новая концепция для развития теории роста тонки пленок, а также как новый объект нанотехнологий для производства тонкопленочных наноматериалов

Keywords

• твердые смачивающие слои
• рост
• электронная и атомная структура
• наноматериалы
• металл
• кремний