Revista Técnica de la Facultad de Ingeniería (Apr 2006)

Anodic oxidation and electropolimerization of salicylic acid

  • Cristóbal Lárez,
  • Olga P Márquez,
  • Jairo Márquez

Journal volume & issue
Vol. 29, no. 1
pp. 3 – 13

Abstract

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La oxidación electroquímica del ácido salicílico es un proceso altamente dependiente de la acidez del medio electrolítico, por la posibilidad de la coexistencia de las especies protonada, neutra y los aniones carboxilato y fenóxido. El predominio de una de estas especies, a un pH determinado, justificaría la variación del potencial de oxidación con la acidez. En medio básico ocurre la oxidación de las especies carboxilato y fenóxido. Para valores de pH débilmente ácidos o neutros, el producto principal de la reacción es una película muy delgada de alta resistividad inicial y lento crecimiento. El análisis de esta película por FTIR de reflectancia ex situ sugiere la presencia de segmentos de anillos aromáticos enlazados por uniones tipo C -O -C y por segmentos de anillos aromáticos enlazados por uniones tipo C -C. Los espectros de FTIR in situ muestran que los enlaces C -C crecen lentamente durante el crecimiento de la película. Se ha calculado la resistividad inicial de la película usando el modelo propuesto por Scharifker, encontrándose valores entre (1,6-2,4) x10(11) Ω.cm-1.Electrochemical oxidation of salicylic acid is highly dependent on acidity of the electrolytic medium, due to the coexistence between protonated species, neutral species, carboxylate ions and phenoxy ions. Prevalence of one of these species, at a given pH, could explain the variation of the potential as acidity varies. In basic medium, oxidation of both carboxylate and phenoxy species takes place, while for weakly acidic or neutral media, the main reaction product is a thin resistive film that grows slowly onto the electrode surface. Ex situ FTIR reflectance measurements suggest the presence of aromatic ring segments linked by C - O - C and C -C bonds. In situ FTIR spectra show that C -C bonds appear slowly during the film growth. Initial resistivity of the film has been estimated using the model developed by Scharifker, and it was found to be within the range (1.6-2.4) 10(11) Ωcm-1.

Keywords