Фотоиндуцированные поликонденсационные процессы в тонких пленках смешанного оксида молибдена и ванадия: перспективы создания новых фотолитографических материалов

Abstract

На основе использования фрактального анализа атомно-силовых изображений исследован механизм УФ-стимулированной поликонденсации в пленках V2O5 : MoO3 (мольное соотношение оксидов 3 : 2), полученных из соответствующих оксокислот. Установлено, что твердофазная полимеризация смешанно-оксидных олигомеров протекает по 3D-механизму, результатом действия которого является увеличение среднего арифметического отклонения профиля поверхности оксидного слоя при одновременном уменьшении фрактальной размерности. Показано, что поликонденсация сопровождается эффектами упорядочения, приводящими к образованию агломератов зерен в виде псевдокристаллитов нанометрового размера, которые можно наблюдать на атомно-силовых изображениях после проявления в растворе кислоты. Такое упорядочение является одним из факторов, обеспечивающих размерную стабильность фотолитографических рисунков, генерированных при помощи пленок MoO3 : V2O5, и сохранение у них ровного края.

Keywords

• фотополимеризация
• смешанный оксид молибдена и ванадия
• фоторезисты