مطالعۀ نظری خواص ساختاری، کشسانی و پراکنش فونونی فوتوکاتالیست تنگستن تری اکسید

Abstract

محاسبات اصول اولیه خواص ساختاری، کشسانی و پاشندگی فونونی تنگستن تری اکسید((WO3 مکعبی با تقریب شیب تعمیم‌یافته (GGA) و روش شبه‌پتانسیل فوق نرم، بر اساس نظریه تابعی چگالی انجام‌ شده است. وابستگی فشار نسبت به ثابت‌های کشسانی، مدول‌های حجمی، مدول‌های برشی، مدول‌های یانگ، دمای دبای کشسانی، ضریب ناهمسانگردی کشسانی، نسبت پواسون، شکل‌پذیری، سرعت‌های کشسان و پارامتر کلینمن نشان داده‌شده است. تجزیه‌ و تحلیل ثابت‌های کشسانی محاسبه ‌شده، نشان می‌دهد که از فشار GPa150 به بالا ساختارWO3 ازنظر مکانیکی ناپایدار می‌شود. از پاشندگی فونونی تنگستن تری اکسید مشاهده می‌شود که بسامدهای فونونی با کاهش حجم افزایش می‌یابند. نتایج نشان می‌دهد که ثابت شبکه و حجم سلول با نتایج تجربی توافق خوبی دارد. خواص کشسانی تنگستن تری اکسید مکعبی، برای اولین بار بررسی‌شده‌اند.

Keywords

• خواص کشسانی
• پاشندگی فونونی
• ساختار مکعبی تنگستن تری اکسید
• اصول اولیه