Guangtongxin yanjiu (Jan 1997)
相位掩模法制作光纤光栅的研究
Abstract
准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写入光栅。从衍射的频谱理论出发，导出具有一定发散角的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布。分析了光源发散角及掩模衍射特性对纤芯近场光强分布及光纤光栅制作的影响。并把分析结果与实验现象进行了比较。
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Guangtongxin yanjiu (Jan 1997)
准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写入光栅。从衍射的频谱理论出发，导出具有一定发散角的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布。分析了光源发散角及掩模衍射特性对纤芯近场光强分布及光纤光栅制作的影响。并把分析结果与实验现象进行了比较。