Tailoring Nickel Oxide Thin Films: Comparative Study of Oxidizing Agents in Thermal and Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

• Mario Alberto Hidrogo-Rico,
• Nicola Nedev,
• Paul Horley,
• María Isabel Mendívil,
• Jhonathan Castillo-Saenz,
• Edgar Martínez-Guerra,
• Emilio J. Juarez-Perez,
• Francisco Servando Aguirre-Tostado,
• Arturo Susarrey-Arce,
• Eduardo Martínez-Guerra

Affiliations

Mario Alberto Hidrogo-Rico

Centro de Investigación en Materiales Avanzados, S.C. (CIMAV Subsede Monterrey), Apodaca, Nuevo León, Mexico

Nicola Nedev

Instituto de Ingeniería, Universidad Autónoma de Baja California, Mexicali, Baja California, Mexico

Paul Horley

Centro de Investigación en Materiales Avanzados, S.C. (CIMAV Subsede Monterrey), Apodaca, Nuevo León, Mexico

María Isabel Mendívil

Centro de Investigación en Materiales Avanzados, S.C. (CIMAV Subsede Monterrey), Apodaca, Nuevo León, Mexico

Jhonathan Castillo-Saenz

Instituto de Ingeniería, Universidad Autónoma de Baja California, Mexicali, Baja California, Mexico

Edgar Martínez-Guerra

Facultad de Ciencias Físico-Matemáticas, Universidad Autónoma de Nuevo León, San Nicolás de los Garza, Nuevo León, Mexico

Emilio J. Juarez-Perez

Nanostructured Films & Particles Research Group (NFP). Instituto de Nanociencia y Materiales de Aragón (INMA), CSIC Universidad de Zaragoza, Zaragoza, Spain

Francisco Servando Aguirre-Tostado

Centro de Investigación en Materiales Avanzados, S.C. (CIMAV Subsede Monterrey), Apodaca, Nuevo León, Mexico

Arturo Susarrey-Arce

Mesoscale Chemical Systems, MESA+ Institute, University of Twente, Enschede, The Netherlands

Eduardo Martínez-Guerra

Centro de Investigación en Materiales Avanzados, S.C. (CIMAV Subsede Monterrey), Apodaca, Nuevo León, Mexico