Preparación de recubrimientos cerámicos mediante técnicas de CVD

Abstract

The fundamentals of the Chemical Vapour Deposition (CVD) techniques and the key parameters determining the characteristics of the deposited layers are described. In addition, we discuss the different activation methods of the precursor gases which are necessary to achieve high reaction rates, and give some practical examples of CVD techniques applied to the preparation of ceramic coatings.<br><br>Se describen los fundamentos de la técnica de CVD y los principales parámetros que determinan las características de las capas depositadas. Se discuten así mismo los diferentes métodos de activación de los gases precursores, necesarios para que la reacción de deposición ocurra con velocidades apreciables y se dan algunos ejemplos de aplicación de las técnicas de CVD en la preparación de recubrimientos cerámicos.

Keywords

• Chemical vapour deposition
• ceramic coatings
• silicon oxynitride
• chemical vapour infiltration
• electrochemical vapour deposition
• Deposición química en fase vapor
• recubrimientos cerámicos
• oxinitruro de silicio
• infiltración química en fase vapor
• deposición electroquímica en fase vapor