Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio (Feb 2004)
Estudio mediante afm de estructuras de silicalita para la separación de gases
Abstract
In this work, we study films of silicalite crystals used in gas separation processes. These crystals were obtained by hydrothermal synthesis during different times and using different gel composition. They were deposited on an alumina support growing in two preferential directions. Finally, the material was placed in a stove at 480ºC during 8 h in order to remove the structurant agent with heating and cooling rates of 0.5 y 2 ºC/min respectively. The resulting surfaces were analysed by atomic force microscopy (AFM) in tapping mode in order to notice the deposition of the silicalite crystals in the indicated directions, and also to distinguish the evolution of the nuclei growth. At the same time, the porous structure of silicalite has been determined, leading to results in good agreement with those obtained by other techniques.<br><br>En este trabajo se han estudiado láminas de silicalita con aplicación en los procesos de separación de gases. Dichas láminas se han depositado mediante síntesis hidrotermal durante distintos tiempos y usando varias composiciones en el gel precursor. La deposición se hizo sobre un soporte de alúmina con crecimiento preferencial en dos direcciones. Finalmente las láminas se calcinaron a 753 K durante 8 h para eliminar el agente estructurante, usando velocidades de calentamiento y enfriamiento de 0.5 y 1 K/min respectivamente. Las superficies resultantes se han analizado mediante microscopía de fuerza atómica en modo de contacto-intermitente (tapping) con el fin de ver si efectivamente se ha conseguido depositar cristales de silicalita en las direcciones indicadas y seguir la evolución de crecimiento de los núcleos. Por otro lado, se ha determinado la estructura porosa de la silicalita comprobando que los resultados concuerdan con los obtenidos por otras técnicas.
