Paladžio pagrindo plonų plėvių, nusodintų iš plazma aktyvintų metaloorganinių cheminių garų fazės, apibūdinimas

Abstract

Darbe naudotas plazmos aktyvintas metaloorganinių garų cheminis nusodinimas (PEMOCVD) plonoms paladžio pagrindo plėvelėms sudaryti, kaip pirmtaką naudojant paladžio (II) acetilacetonatą (Pd(acac)2), sumaišytą su argonu (nešančiosios dujos). Plėvių cheminei sandarai ir morfologijai tirti naudota Ramano spektroskopija ir elektronų difrakcija. Energijos dispersinė rentgeno spindulių mikroanalizė (EDX) buvo taikoma plėvelių sudėčiai nustatyti. Plėvelės storis buvo įvertintas elipsometriniais matavimais. Rezultatai rodo, kad priklausomai nuo nusodinimo sąlygų, gaunamos skirtingos sudėties plėvelės. Taip pat nustatyta, kad, esant 623 K temperatūrai, plėvelės suyra ir dėl to formuojasi 5 nm – 10 nm dydžio katalitiškai aktyvios paladžio nanodalelės.DOI: http://dx.doi.org/10.5755/j01.ms.18.2.1913

Keywords

• plasma deposition
• thin palladium film
• Raman spectroscopy
• electron diffraction