Yalıtkan/Yarıiletken Ara Yüzeyin Kendiliğinden Biriken Tek katman Tekniği ile Organik Alan Etkili Transistör (OFET) Performansına Etkisi

Abstract

Kendiliğinden Birikme, yüzeylerin fonksiyonelleştilmesi için etkili bir teknilerden biridir. Kendiliğinden biriken moleküller (Self-assembled monolayers, SAM), iletken/yarıiletken ve yalıtkan/yarıiletken yüzeyler üzerine oluşturulabilir ve çeşitli teknolojik uygulamalarda kullanılmaktadır. Bu çalışmada, kendiliğinden biriken tek katman molekülleri kullanılarak Organik Alan Etkili Transistörlerin yalıtkan/yarıiletken ara yüzeyi fonksiyonelleştirilerek aygıt performansı arttırılması amaçlanmıştır.

Keywords

• ara yüzey modifikasyonu
• fenilboronik asit (pba) ve türevleri
• kendiliğinden biriken tekkatman
• ofet
• interface modification
• phenlyboronic acid (pba) ve its derivaties
• self-assembly monolayer
• ofet